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OmniGrade殘余氣體分析系統(tǒng)

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摘要

OmniGrade 殘余氣體分析系統(tǒng)?
OmniGrade 殘余氣體分析系統(tǒng)是超高真空環(huán)境的精密監(jiān)測(cè)專家,憑借四極桿質(zhì)譜技術(shù)實(shí)現(xiàn) 10?12 Pa 級(jí)檢測(cè)靈敏度,捕捉 H?、O?等痕量氣體。適配分析實(shí)驗(yàn)室材料表征、高能物理加速器真空維護(hù)、半導(dǎo)體 EUV 光刻潔凈監(jiān)測(cè)等場(chǎng)景,模塊化設(shè)計(jì)支持定制檢測(cè)范圍,搭配技術(shù)團(tuán)隊(duì) 7×24 小時(shí)服務(wù),為科研與生產(chǎn)的真空工藝優(yōu)化提供可靠數(shù)據(jù)支撐。立即咨詢獲取定制方案!

產(chǎn)品介紹

OmniGrade殘余氣體分析系殘余氣體分析系統(tǒng)

殘余氣體分析系統(tǒng)


殘余氣體分析系統(tǒng)


殘余氣體分析系統(tǒng)


         技術(shù)規(guī)格ISO

殘余氣體分析系統(tǒng)

尺寸圖


OmniGrade

殘余氣體分析系統(tǒng)

OmniGrade 殘余氣體分析系統(tǒng):超高真空環(huán)境下的精密氣體監(jiān)測(cè)專家

核心優(yōu)勢(shì):

作為普發(fā)真空(Pfeiffer Vacuum)研發(fā)的定制化解決方案,OmniGrade 殘余氣體分析系統(tǒng)(RGA)專為

超高真空環(huán)境下的痕量氣體檢測(cè)與潔凈度驗(yàn)證設(shè)計(jì)。其模塊化架構(gòu)集成四極桿質(zhì)譜技術(shù)(可選配 PrismaPro 或 HiQuad 質(zhì)譜儀),可實(shí)現(xiàn)

10?¹² Pa 量級(jí)的檢測(cè)靈敏度,識(shí)別 H?、O?、N?、CO?等氣體成分及微小泄漏。系統(tǒng)支持高溫烘烤(最高 300℃)和自動(dòng)化樣品傳輸,有效降低背景噪聲,確保復(fù)雜工況下數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性與重復(fù)性。

三大核心市場(chǎng)與應(yīng)用場(chǎng)景:

分析實(shí)驗(yàn)室與材料研發(fā)

在半導(dǎo)體材料表征、納米涂層放氣率測(cè)試等場(chǎng)景中,OmniGrade 通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)真空腔體內(nèi)的氣體成分變化,幫助科研人員優(yōu)化工藝參數(shù)。例如,通過(guò)量化高分子材料在真空環(huán)境下的氣體釋放動(dòng)力學(xué),支撐航天器件材料選型。其模塊化設(shè)計(jì)支持與掃描電鏡、X 射線衍射儀等設(shè)備無(wú)縫集成,實(shí)現(xiàn)材料表面吸附 / 脫附過(guò)程的原位分析。

高能物理與粒子加速器

在粒子加速器、核聚變裝置等超高壓真空系統(tǒng)中,OmniGrade 可實(shí)時(shí)追蹤因管道焊接缺陷或密封件失效導(dǎo)致的泄漏,確保 10?? Pa 級(jí)真空度的長(zhǎng)期穩(wěn)定。其快速響應(yīng)能力(毫秒級(jí))可捕捉離子束傳輸過(guò)程中因氣體散射引發(fā)的能量損失,助力 CERN、費(fèi)米實(shí)驗(yàn)室等機(jī)構(gòu)的前沿研究。

半導(dǎo)體制造與 EUV 光刻

針對(duì) EUV 光刻機(jī)等極端潔凈環(huán)境,OmniGrade 嚴(yán)格遵循 GSA 07 1221 & GSA 07 2221 標(biāo)準(zhǔn),通過(guò)監(jiān)測(cè)光刻膠揮發(fā)物、工藝氣體殘留等污染物,將芯片良率提升至 99% 以上。在 PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)工藝中,系統(tǒng)可識(shí)別 H?O 分壓異常,自動(dòng)觸發(fā)腔體烘烤程序,避免因水分子污染導(dǎo)致的薄膜透光率下降 1.5%。

技術(shù)亮點(diǎn)與行業(yè)價(jià)值:

 定制化全流程解決方案:從雙腔室基礎(chǔ)配置到集成負(fù)載鎖定腔的三腔室設(shè)計(jì),OmniGrade 可根據(jù)客戶需求靈活調(diào)整檢測(cè)范圍(1-200 amu)與檢測(cè)模式(FC/EM 雙模式切換),兼顧成本與性能。

工業(yè) 4.0 兼容性:支持 OPC UA、Modbus 等協(xié)議,可通過(guò) FabGuard 軟件實(shí)現(xiàn)多批次數(shù)據(jù)建模與異常預(yù)警,幫助晶圓廠建立 “成分 - 工藝 - 缺陷” 關(guān)聯(lián)分析體系。

可持續(xù)性設(shè)計(jì):采用節(jié)能型渦輪分子泵(如 Hipace 300 M)和低功耗質(zhì)譜模塊,相比傳統(tǒng)設(shè)備降低能耗 30%,同時(shí)減少 90% 的氦氣消耗量。

行動(dòng)呼吁:

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免費(fèi)定制方案,體驗(yàn) OmniGrade 如何為您的超高真空工藝提供從檢測(cè)到優(yōu)化的全生命周期支持。普發(fā)真空技術(shù)團(tuán)隊(duì)將為您提供 7×24 小時(shí)遠(yuǎn)程診斷與備件快速響應(yīng)服務(wù),確保設(shè)備停機(jī)時(shí)間趨近于零。

(注:文中數(shù)據(jù)基于普發(fā)真空公開技術(shù)文檔及行業(yè)應(yīng)用案例,具體參數(shù)可根據(jù)需求定制。)

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